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Visual FoxPro数据库及面向对象程序设计基础实验指导及习题解答
本书作为《Visual FoxPro数据库及面向对象程序设计基础(第2版)》(ISBN: 9787302261049)的辅助教材，包括实验指导和习题分析及解答两篇内容。实验指导篇包含VFP系统环境及配置、VFP表达式及应用、数据库的建立与维护、SQL语言应用与视图设计、结构化程序设计基础、表单设计及应用、控件设计及应用、菜单设计及应用、报表与标签设计及应用、网络程序设计基础、连编并发布应用程序11个实验单元，共有验证和设计性实验60多个题目，每个实验题目都给出了实验目的、实验要求、注意事项、实验步骤和思考
现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程
本书基于作者团队多年的光刻工艺（包括先进光刻工艺）研发经验，从集成电路工厂的基本结构、半导体芯片制造中常用的控制系统、图表等基本内容出发，依次介绍光刻基础知识，一个6晶体管静态随机存储器的电路结构与3个关键技术节点中SRAM 制造的基本工艺流程，光刻机的发展历史、光刻工艺8步流程、光刻胶以及掩模版类型，光刻工艺标准化与光刻工艺仿真举例，光刻技术的发展、应用以及先进光刻工艺的研发流程，光刻工艺试流片和流片的基本过程，光刻工艺试流片和流片中出现的常见问题和解决方法，光刻工艺中采用的关键技术举例以及其他两种与光刻相关的技术等内容。 本书不仅介绍光刻工艺相关基础知识，还介绍了一种符合工业标准的标准化研发方法，通过理论与仿真相结合，力求更加清楚地展示研发过程。本书可供光刻技术领域科研院所的研究人员、高等院校的学生、集成电路工程的技术人员等作为学习光刻技术的参考书。
衍射极限附近的光刻工艺（第2版）
为了应对我国在集成电路领域，尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面，破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境，作为从事光刻工艺研发近20年的资深研发人员，作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任，将近20年的学习成果和研发经验汇编成书，建立联系我国集成电路芯片的研发和制造，设备、材料和软件的研发，以及大专院校、科研院所的科学技术研究、人才培养的一座桥梁。本书以光刻工艺为主线，有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，给读者一个整体的图景。本书可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的教师和学生、集成电路工厂的工程技术人员等参考。
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